Resolution limitation in EBL optical grating fabrication on InGaAsP/InP substrate

Anno: 1990

Autori: GENTILI M., GRELLA L., LUCCHESINI A., MENEGHINI G., SCOPA L.

Affiliazione autori: IESS – CNR Roma;
CSELT, Torino.

Giornale/Rivista: JOURNAL OF THE OPTICAL SOCIETY OF AMERICA B-OPTICAL PHYSICS

Maggiori informazioni: ISSN: 0393-2648
Parole chiavi: Electron beam lithography; InGaAsP; Laser diode; Monte Carlo simulation; Electron scattering